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ＵＶオゾン洗浄装置～　Model 144AX

紫外線とオゾンで洗浄するのでダメージを与えることなく汚れを除去

ウェット洗浄では取り切れない汚濁膜の除去に最適！
有機物をガス化して排出するのでゴミの再付着もありません。

Model 144AX UVOクリーニングシステムは平面水銀ランプにより紫外線を照射し、照射エネルギーとそれにより生成されるオゾンを利用し有機化合物を分解・酸化させガス化して除去するので、ワーク表面に熱ダメージや磨耗などのダメージを与えることなく汚れを効率よく取り去ることができます。ウエット洗浄と異なりゴミの再付着の心配も無く、また有機化合物による汚染もないので扱いやすく環境にもやさしいクリーナーです。
ランプの耐久時間（１５００～１７００時間）

Model 144AX

ウェット洗浄と組み合わせれば最高の洗浄能力を発揮します。

以下の表に示す様に、湿式洗浄方よりも格段に高い洗浄効果があります。除去できる汚れは有機化合物で、主として油性の汚濁物質です。欠点としては大きな汚れ（ホコリ、ゴミ、カスなど）はUVOクリーナーでは除去できません。大きな汚れは従来の方法で除去し、仕上げ洗浄としてUVOクリーナーを使用すると、理想的な洗浄効果が得られます。また超純水のリンスの前に光洗浄を加えると、油性の汚濁膜が取れ、そこに粘着されていた微細なホコリがすすぎ洗いで除去出来るようになります。

接触角：洗浄表面に試薬水をたらし、その試薬水の接触角の濡れ性で評価しています。

処理条件	接触角
無処理のガラス板	26
洗剤→水道水→炭化水素系溶剤	39
洗剤→水道水→純水	17
洗剤→水道水→IPA	14
オゾン水	10度以下
洗剤→水道水→プラズマ	5
洗剤→水道水→UVOクリーナー	4

照射時間30～60秒程度で接触角は各段に低くなります。接触角４度という値は、有機化合物の膜が単分子以下になった状態を示します。実際には、湿式洗浄で20度以下まで汚れを落とした後にUVOクリーナーを使用すると理想的な値を得ることが出来ます。

＊IPA：イソプロピルアルコール

半導体分野だけでなく様々な洗浄用途に簡単応用できます。

用途に応じて幅・高さ各種サイズをご用意しております

様々な素材に適用できるので半導体分野だけでなく、電子材料、液晶、自動車、家電、ETC等でもお使い頂けます
紫外線ランプは254nm以下の波長で熱領域を出さない為熱に敏感なワークでもダメージを与えません
低コストでの導入が可能です
処理された有機物はガス化しオゾンと共に排気口より排出されますので再付着の心配はありません
セラミック基盤、液晶ガラス、ブラウン管、磁気ヘッド、クロム膜等の密着性の向上、表面改質
Si ウェハ、GaSa ウェハ、レンズ、ミラー、太陽電池パネル等のクリーニング、密着性の向上
ダイシングテープの粘着性の低減（種類により粘着性の向上）
レジストのハードニング促進、アイシング、残カスの除去
FPD/PDPのクリーニング
ウェハの酸化層の増大
EPROM、メモリの中性化
その他、各種材質のクリーニング、密着度向上、酸化増強、硬化等
バイオケミカルの殺菌等

オプション

Suprasil UV Lamp（合成石英ガラス紫外線ランプ)
紫外線短波長184.9nmの透過率が90％(標準ランプは65％)に達するのでオゾンの生成率が２倍にアップ！クリーニング時間も短縮されます。
オゾンキラーユニット
オゾンを排気ダクトから排出したくない場合に最適。排気ユニットと併用します。
排気ユニット
排気設備のない場所用の強制排気ユニット。オゾンキラーユニットと併用すればオゾン臭も気にならなくて済みます。
紫外線照度計入力：ＡＣ１００Ｖ１２Ａ

大きさも各種取り揃えています！

トレイのサイズも様々。用途に応じて選択することが出来ます。(単位はｍｍ）

モデル名	576	7576	384	288A	256	144AX	42	342
トレイサイズ（W）	609.6	609.6	609.6	609.6	406.4	304.8	165.1	165.1
(D)	609.6	609.6	406.4	304.8	406.4	304.8	165.1	165.1
(H)	76.2	177.8	76.2	76.2	76.2	76.2	25.4	101.6

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ＵＶオゾン洗浄装置 ～ Model 144AX